Главная цель — за 10 лет перейти на 1,4-нанометровый техпроцесс. На данный момент таких планов нет ни у одного из конкурентов. В дорожную карту, к слову, включен 2019 год — это первая веха на пути к освоению нового техпроцесса. В этом году Intel освоила 10-нм техпроцесс.
Следующим этапом является освоение 7 нм технологии, что станет возможным благодаря внедрению технологии EUV — это литография со сверхжестким ультрафиолетовым излучением. Собственно, новый техпроцесс компания собирается осваивать каждые два года. После 7 нм следуют 5 нм — в 2023 году, затем — 3 нанометра, в 2025 году. В 2027 году компания собирается освоить 2 нм, а в 2029 — 1,4 нм.






